レーザプロセス技術実用化セミナーを４月に開催

１月１６日の本ブログで「レーザプロセス技術」について書きましたが、同書をテキストにセミナーを開催します。４月２２日（水）～２４日（金）にパシフィコ横浜でレーザーエキスポEXPO2009が開催されますが、初日の４月２２日に月刊オプトロニクスの特別セミナーとして開催いたします。
講義は２部構成で第1部の「レーザプロセスの基礎とプロセス用各種レーザの特性」では、物質によるレーザ光の吸収と熱拡散／プラズマの生成とレーザ光の吸収／熱処理プロセス／光化学処理プロセス／レーザアブレーション／気体レーザ／固体レーザ／高出力半導体レーザ／ファイバーレーザ／フェムト秒レーザ／光高調波の発生についての講義があります。
第２部の「レーザプロセスの実際とその応用」ではレーザ加工機構／熱処理プロセス／光化学処理プロセス／超短パルス処理プロセス／レーザプロセスの新しい展開／レーザ同位体分離についてです。
講師は前回紹介済みの永井治彦氏です。
■日時　　　2009年4月22日（水）　14：00～17：00　
■会場　　　パシフィコ横浜アネックスホールのＦ２０５

■主催　　　月刊OPTRONICS
■募集定員　　６０名（定員になり次第締切）
■テキスト　　「レーザプロセス技術―基礎から実際まで―」増補改訂版＜2008年12月 オプトロニクス社より刊行 定価4,200円（税込）＞
■受講料　　・月刊OPTRONICS定期購読者　18,900円（テキスト、税込）　　・一般　30,450円（テキスト、税込、月刊OPTRONICS１年間定期購読含む）
★早期割引　　2009年3月19日（木）までにお申込いただくとお得な早期申込割引を適用いたします。
・月刊OPTRONICS定期購読は18,900円⇒14,700円（テキスト、税込）　
・一般　30,450円⇒26,250円（テキスト、税込、月刊OPTRONICS１年間定期購読含む）
■ 参加申込　下記のＷｅｂサイトをご覧いただき詳細ご確認の上、サイト内のお申込フォームよりお申込ください。
https://www.optronics.co.jp/seminar/process/